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SiC高溫退火爐


所屬分類:

氧化/擴(kuò)散/退火


概要:

專門用于碳化硅(SiC)氮化鎵(GaN)器件的離子注入后退火工藝,采用特殊的無金屬加熱設(shè)計(jì)使加工溫度提高到2000℃。 適用工藝:SiC和GaN晶圓的退火


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